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预处理系统

  

                                                  预处理系统                                                     PLC把持盘

 

 1)预处理系统设计与选用的重要根据

l         采用分析仪的设备或流程系统的工艺过程及其特点,分析仪在该工艺流程中的作用

l         取样点的地位¶••⊿环境状态以及取样点周围样品的散布状态及物理化学参数

l         被测组分的平均含量,以及可能涌现的最高与最低含量,工艺过程中的变更频率

l         非测量组分的平均含量及其在工艺过程中的变更领域,考虑打消措施及抗干扰措施

l         样品中的水含量,对大多数气体分析仪具有干扰作用,应采用相应措施加以限制或打消

l         样品压力或压差及其波动领域,多数分析仪对样品压力及流量比较敏感,需要必定的稳压稳流措施

l         样品温度变更领域及其平均值,以便选择合理的取样探头结构及核算其应用寿命,同时,考虑分析仪是否采用温度补偿措施

l         样品中机械杂质及其含量;灰尘含量是设计取样探头及过滤器的重要根据,根据灰尘平均含量,核算过滤器调换或掩护的周期;灰尘颗粒尺寸变更较大时,采用不同的多种过滤方法

l         样品中腐化性物质的平均含量及可能的最高含量,与选择取样系统的材料¶••⊿分析仪类型¶••⊿过滤方法等有关

l         取样点样品含量产生变更到分析仪稳固所容许的时间(响应时间),需要考虑响应时间是否能满足工艺生产的请求,否则,要从仪器选型¶••⊿取样点¶••⊿分析仪安装地位考虑尽量使距离缩短

l         分析仪及取样系统安装地点的安全防爆等级,以及是否需要PLC全主动把持采样,也是取样系统选型的重要根据;

2)预处理系统对样品进行处理后的请求

目标在于改良样品的物理¶••⊿化学特征,适应分析仪的正常工作,请求如下:

l         样品中灰尘和机械杂质一般不超过0.01g/m3

l         样品中水蒸汽必须排除,一般含水量不超过0.5g/m3

l         样品中腐化性杂质,如硫化氢¶••⊿氨等,一般不超过0.01g/m3

l         样品温度一般不超过40,最好是室温

l         进入分析仪的压力尽量接近大气压,以简化分析仪的设计请求

l         把持样品流量,大多数分析仪所需流量为0.2~1L/min,且请求流量保持稳固

l         打消或减少样品中对分析仪有干扰作用的组分,但应避免转变待测组分的含量

 

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